172 Nm eksimerlampas gaismas caurule rūpnieciskai lietošanai

IESPĒJAS

1. Viena viļņa garums, koncentrēta ultravioletā izeja

2. Ne-saskaņota gaisma, var aptvert lielu laukumu

3. Nav elektrodu korozijas, ilgs kalpošanas laiks

4. Jūs varat ieslēgt un izslēgt jebkurā laikā, nav nepieciešams uzsildīt

5. Apkārtējās vides temperatūra neietekmē ieslēgšanu un darbību

6. Aukstās gaismas avots, nerada infrasarkano staru izvadi, nav acīmredzamas sildīšanas ietekmes uz apstrādājamo objektu

7. Videi draudzīgs, bez dzīvsudraba

SPECIFIKĀCIJAS

1. Modeļa nr.: UWB172-150W

2. Maksimālais viļņa garums: 172 nm

3. Izmērs: 55600mm

4. Ieejas spriegums: 220vAC

5. Jauda: 150w

6. Stara leņķis: 100 grādi

7. Radiation Intensity: 10mw/cm²(0cm)

8. Darba temperatūras diapazons: -10 grādi - 150 grādi

9. Kalpošanas laiks: 4000 stundas

LIETOJUMI

Virsmas tīrīšana. To var izmantot vafeļu un plakano paneļu displeju tīrīšanai, fotorezista noņemšanai

Virsmas kodināšana un modifikācija, piemēram, poliimīds, fluora materiāli utt.

Zemas temperatūras fotoķīmiskā tvaiku pārklāšana (Foto-CVD). Piemēram, elektroniskā plēve TA2O5, HFO2 utt.

Oksidēšana, vieglā atkausēšana. lai uzlabotu SiO ķīmisko rādītāju₂elektroniskā filma

Katalītiskā metalizācija istabas temperatūrā. ieklāt metāla elektrodu plastmasas virsmā

Virsmas aktivizēšana, lai palielinātu virsmas spraigumu un mitrumu

Organiskā degradācija. atdala organisko oglekli, lai iegūtu īpaši tīru ūdeni, sadalītu pesticīdu atliekas un fotoķīmisko atkrāsošanu drukas un krāsošanas notekūdeņos

Augstas tīrības pakāpes ozons rada

172 nm eksimēra gaismas avota priekšrocība virsmas modifikācijas laukā

Virsmas modifikācijas tehnoloģija tiek izmantota daudzās rūpniecības jomās. Salīdzinājumā ar parastajām metodēm materiāla modifikāciju, izmantojot eksimēra lampas, uzskata par precizitātes modifikāciju, jo tā notiek ķīmiskas reakcijas ceļā molekulārā vai atomu līmenī.

Šī ir tīra modifikācija, kas neietekmē materiālu un nerada putekļu daļiņas, un tiek uzskatīta par efektīvu jomās, kur nepieciešami sarežģītāki materiāla modifikācijas līmeņi.

Vacuum UV light, at a wavelength of 172 nm, is produced by an excimer lamp. The 172 nm radiation is significantly absorbed by oxygen so that active oxygen of high concentration can be produced. Vacuum UV light can even break organic matter's molecular bonds, which helps it to provide advantages in many processes such as enhancing the cleaning quality, expediting the cleaning speed, and boosting the product yield.

Mikrofluidiskās ierīces tagad tiek izmantotas daudzās dažādās jomās, tostarp bioloģiskās un medicīnas jomās. Līmēšanas tehnoloģijas izmantošanai šādās ierīcēs ar smalkām struktūrām ir vajadzīgas līmēšanas metodes ar augstāku kvalitātes un precizitātes pakāpi. Līmēšanai, kurā tiek izmantotas eksimēra lampas, nav nepieciešama līmviela, un tā neizraisa termisku deformāciju un bojājumus, tāpēc tā ir piemērota mikrofluidisko ierīču līmēšanai.

Korona izlādes un plazmas tehnikā mērķa objekts tiek tieši pakļauts izlādei, un tas var tikt bojāts. Tomēr eksimēra lampas tehnikā objekts tiek vienkārši apstarots ar vakuuma UV gaismu, un tam nav nekādu bojājumu.

Korona izlādes un plazmas tehnikā putekļu daļiņas, ko rada elektrodu izšļakstīšanās, var lidot uz augšu ar gaisa plūsmu un pielipt pie mērķa objekta virsmas. Šādas problēmas tiek atrisinātas, izmantojot eksimēra lampas (172 nm eksimerlampas gaismas caurule rūpnieciskai lietošanai) tehniku, kas nodrošina tīru apstrādi. Atšķirībā no koronaizlādes un citiem plazmas paņēmieniem, kuros izmanto izlādi, eksimēra lampas tehnika, kurā izmanto gaismu, neizraisa neregulāru apstarošanu un nodrošina vienmērīgu un efektīvu apstrādi lielā platībā.

Populāri tagi: 172 nm eksimēra lampas gaismas caurule rūpnieciskai lietošanai, Ķīna, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, pielāgota, vairumtirdzniecība, lielapjoma, cenrādis, noliktavā, pārdošana